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有机废气处理设备的uv光解氧化机理!
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2021-07-10 16:11
有机废气处理设备的uv光解氧化机理!
什么是uv光解设备?uv光解除臭设备、光解设备、uv光解技术、紫外光催化光解、光氧催化废气污染者和光解废气污染者有什么区别?
uv光解技术原理简介:
在波长范围为170nm-184.9nm(704 kj/mol-647 kj/mol)的高能紫外线的作用下,一方面使空气中的氧气裂解,然后结合产生臭氧;另一方面,恶臭气体的化学键断裂,形成自由原子或基团;同时,产生的臭氧参与反应过程,使恶臭气体裂解氧化,产生简单而牢固的化合物,如CO2、H2O、SO2、N2等。
注意:
1.恶臭物质是否被光解除臭设备破解,取决于化学键能是否低于供给的UV光子的能量。废气处理设备是一种环保设备,通过回收或去除废气中的有害成分来保护环境、净化空气。
2.裂解反应时间极短(< 0.01 s),氧化反应时间为2-3 s。
3.如果提供的紫外光子总功率不足或氧含量不足,会因不完全裂解或氧化而产生一些副产物,从而影响污染效果。燃烧炉废气处理设备再生氧化技术处理效率高,热回收率高,降低了系统能耗,能够满足污染排放标准的要求。这将是有机废气处理***域的一个重要发展方向。高分子浓度高的有机恶臭物质明显体现。
4.uv光解具有长期稳定性和高效性,要求反应温度< 70℃,粉尘量< < 100mg/m3,湿度< 99%。Voc废气处理设备是一种环保设备,通过回收或去除废气中的有害成分来保护环境、净化空气。在吸收法中,挥发性有机化合物被低挥发性或非挥发性溶剂吸收,然后通过挥发性有机化合物和吸收剂之间物理性质的差异进行分离。
5.如果前提满意,uv光解的高污染效率可达99.9%以上。
某些有机化合物的局部化学键能高于供给的紫外光子能,如甲醛的“C=O”键的键能为728kj/mol。目前我们提供的紫外光子能量为704kj/mol (742kj/mol和800kj/mol正在研制中)。在170纳米的紫外光照射下,甲醛会裂解形成游离的[C=O]*和H*。一个局部[C=O]*与03反应生成CO2,一个局部[C=O]*与N2等惰性物质碰撞后失去能量生成CO,当臭氧量充足时,局部CO可被氧化为CO2。
如果紫外波长为160纳米(742千焦/摩尔),反应过程会更简单:甲醛会直接裂解成游离的C*和H*,被O3直接氧化成CO2和H2O。
从上面可以看出,同一物质在不同波段被紫外线光解的反应可能不同。紫外线的波长越短,也就是紫外线光子的能量越高,物质的光解反应就越容易,越难,甚至没有任何后果。